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HL-高效光亮氰化鍍銅工藝
日期:2012-7-19 14:17:00    閱讀:
HL-高效光亮氰化鍍銅工藝
 
一、 性能特點
1. 鍍層光亮平滑,結晶細致,孔隙率小;
2. 電流密度范圍寬闊,覆蓋能力極佳;
3. 雜質容忍度高,易于控制;
4. 適用于鋼鐵、銅、青銅等不同基體的工件,鋅合金壓鑄件尤為適合;
5. 鍍液可用氰化鉀或氰化鈉配制,效果同樣理想。
二、 操作條件
    組成
范圍
標準
氰化亞銅
(g/L)
鐵件、銅件
30-50
(金屬銅21-35)
40
(金屬銅28)
鋅合金
60-90
(金屬銅42-63)
75
(金屬銅52.5)
氰化鈉
(g/L)
鐵件、銅件
40-67
(游離氰7-12)
52.5
(游離氰9)
鋅合金
80-120
(游離氰14-21)
100
(游離氰17)
氫氧化鈉
(g/L)
鐵件、銅件
5-10
5
鋅合金
0-3
1
諾切液(ml/L)
30-50
40
HL-3(ml/L)
5-7
7
HL-4(ml/L)
5-7
5
溫度
50-60℃
陰極電流密度A/dm2
0.5-4.0
攪拌
陰極搖擺
陽極
無氧電解銅,套陽極袋
過濾
連續過濾
三、 鍍液配制
1. 注入1/4體積的水于已洗凈的備用缸(或預備槽)中,加入計量所需的氫氧化鈉、氰化鈉,攪拌至完全溶解;
2. 在不斷攪拌下加入所需的氰化亞銅,直至完全溶解,如在此過程中溫度過高,需加入適量的水,使溫度降到50℃左右;
3. 用過濾泵把鍍液濾入清潔的電鍍槽內,加水至所需的水位,攪拌均勻后取樣分析,并調整各成分至所需范圍;
4. 加溫至50℃以上,連續過濾并用波浪狀電解板電解鍍液4小時以上;
5. 加入所需的添加劑,攪拌均勻后,便可以試鍍。
四、 設備要求
1. 鍍槽:低碳鋼缸襯合適的塑料或其它認可的材料;
2. 溫度控制:可用不銹鋼電熱筆加熱,或其它認可的熱交換器;
3. 循環過濾:過濾泵最少能在一小時內將鍍液過濾四次。
五、添加劑作用和補充
氰化亞銅(CuCN):供給鍍液銅離子的來源,當采用高電流密度時,金屬含量也要提高。電流密度與銅含量、攪拌程度、游離氰化鈉含量、溫度和光亮劑含量等有有關。
氰化鈉(NaCN):鍍液中的游離氰化鈉取決于銅含量,一般金屬銅與游離氰化鈉之比為3:1。當游離氰化鈉偏低時,低電流密度區會起云霧;當游離氰化鈉偏高時,陰極電流效率降低,上鍍速度慢,同時陰極會有大量氣體產生。
氫氧化鈉(NaOH):可提高鍍液的導電性。鋅合金電鍍時,宜保持1-3克/升,以免堿度太高而侵蝕鋅合金;鋼鐵件電鍍時,濃度可增加至10克/升。
諾切液:比酒石酸鉀鈉效果好,可減低陽極鈍化,增加陽極電流效率和溶解速度,減少氰化物的使用量,減緩鍍液中碳酸鹽的生成;可提高陰極電流效率,使鍍層細膩光滑,防止粗糙;可降低鍍液受鉻酸污染所引起的問題。通常是每添加5克/升的氰化亞銅,就添加1毫升/升的諾切液或者視陽極溶解狀況適量補充。
HL-3:能使高電流密度區光亮,減低鍍層出現針孔機會。含量偏低時,高電流區光澤不足;含量偏高時,鍍層易在空氣中氧化變色,陽極易鈍化。日常添加按照75-125 毫升/千安培小時補充。
HL-4:與HL-3一起使用時,高低電流密度區同樣光亮。含量偏低時,低電流區光澤不足;含量偏高時,高電流區發暗,鍍層色澤變淺。日常添加按照225-375 毫升/千安培小時補充。 

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